技術參數(shù)X 軸 測量范圍: 100mm 或 200mm 分辨率: 0.05µm 檢測方法: 線性編碼器 驅(qū)動速度: 0 - 80mm/s 測量速度: 0.02 - 5mm/s 移動方向: 向后 直線度: （0.05+1L/1000）µm*（0.5µm/200mm: 測量范圍為200mm的型號） 傾角范圍: ±45ºZ2 軸 （立柱） 垂直移動: 300mm 或 500mm、動力驅(qū)動 分辨率: 1µm 檢測方法: ABSOLUTE 線性編碼器 驅(qū)動速度: 0 - 20mm/s檢測器 范圍／分辨率: 800µm / 0.01µm, 80µm / 0.001µm,8µm / 0.0001µm （使用測頭選件時，最大可達2400µm） 檢測方法: 無軌／有軌測量 測力: 4mN 或 0.75mN （低測力型） 測針針尖: 金剛石、90º / 5µmR（60º / 2µmR: 低測力型） 導頭曲率半徑: 40mm 檢測方法: 差動電感式基座尺寸 （W x H）: 600 x 450mm 或 1000 x 450mm基座材料: 花崗巖尺寸 （W x D x H）: 756 x 482 x 966mm （S4 型）756 x 482 x 1166mm （H4 型）1156 x 482 x 1176mm （W4 型）766 x 482 x 966mm （S8 型）766 x 482 x 1166mm （H8 型）1166 x 482 x 1176mm （W8 型）重量 140kg （S4, S8 型）150kg （H4, H8 型）220kg （W4, W8 型）*L 為驅(qū)動長度 （mm）評估能力: SURFPAK-SV評估輪廓 P （主輪廓）, R （表面粗糙度輪廓）, WC, WCA, WE, WEA, DIN4776 輪廓、包絡殘余線、粗糙度 motif、波形 motif評估參數(shù) Ra, Rq, Rz, Ry, Rz（JIS）, Ry（DIN）, Rc, Rp, Rpmax, Rpi, Rv, Rvmax, Rvi, Rt, Rti, R3z, R3zi, R3y, S, Pc （Ppi）, Sm, HSC, mr, δc, plateau ratio, mrd, Rk, Rpk, Rvk, Mr1, Mr2, Δa, Δq, λa, λq, Sk, Ku, Lo, Lr, A1, A2 粗糙度 motif 參數(shù): Rx, R, AR, SR, SAR, NR, NCRX, CPM 波形 motif 參數(shù): Wte, Wx, W, AW SW, SAW, NW分析圖表 ADC, BAC1, BAC2、功率譜圖、自相關圖、Walsh 功率譜圖、Walsh 自相關圖、 傾斜分布圖、局部峰值分布圖、參數(shù)分布圖濾波類型 2CR-75%, 2CR-50%, 2CR-75% （相位校正）, 2CR-50% （相位校正）, 高斯-50%截止波長* λc: 0.025mm, 0.08mm, 0.25mm, 0.8mm, 2.5mm, 8mm, 25mm fl: 0.08mm, 0.25mm, 0.8mm, 2.5mm, 8mm, 25mm fh: 0.08mm, 0.25mm, 0.8mm, 2.5mm, 8mm取樣長度 （L）* 0.025mm, 0.08mm, 0.25mm, 0.8mm, 2.5mm, 8mm, 25mm取樣長度 傾斜補償、R 平面 （曲面） 補償、橢圓補償、拋物線補償、 雙曲線補償、二次曲線自動補償、 多項式補償、 多項式自動補償* 可在0.025mm 至最大移動長度間指定任意長度。